Das Projekt "H-iSlice" widmet sich der industriellen Forschung zur Heterointegration von monokristallinen LiNbO3 (LNO) Nanofilmen auf Siliziumsubstraten. Der Einfluss verschiedener Parameter des Produktionsprozesses auf die Zuverlässigkeit, Stabilität und Reproduzierbarkeit dieser LNO Nanofilme, sowie auf die erreichbaren piezoelektrischen und thermischen Materialparameter wird umfassend erforscht. Um diese Materialparameter schnell und genau zu bestimmen, werden neuartige AFSEMTM-basierte Messmethoden entwickelt. Hierzu werden neuartige Tandemstrukturen (d.h. nebeneinander im fixen Abstand) von Mikrosonden, welche aus temperaturempfindlichen AFM-Spitzen zur lokalen Mikroerwärmung und lokalisierten hochauflösenden Temperaturmessung bestehen, entwickelt und in eine AFSEMTM-Einheit implementiert. Das umfassende Projektziel von H-iSlice ist die Integration von funktionalen LNO Nanofilmen auf Siliziumwafern, die sich durch einen maßgeschneiderten Kristallschnitt, einen hohen Kristallinitätsgrad, sowie hervorragende piezoelektrische Koeffizienten und gut definierte thermische Eigenschaften auszeichnen, und so in Kombination mit mikroelektronischen Bauelementen gänzlich neue Anwendungsfelder erschließen.